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    “嗯！我记住了！”

    放下电话，葛小天有点愣神。

    高级元件资料，是九所从老家返回京城后，请军部帮忙押运到天成的机密级技术，如果泄露，他恐怕要背锅。

    并且，里面的东西确实挺先进。

    包括：

    制造步进式光刻机，缩短曝光光源波长、提高数值孔径、改进曝光方式等技术。

    以及提高光刻图形分辨率的移相掩膜、离轴照明、临近效应校正等技术。

    还有待研发课程，电子束光刻、聚焦离子束光刻、euv光刻等技术。

    除此之外，又包括相应的蚀刻机制造技术、复合半导体晶片技术……

    以上，都是世界前沿科技。

    如果造出来，那华夏就有可能，嗯，是有可能追赶上国际最前沿的芯片。

    可惜，没有制造设备！

    现阶段，九所免费租赁给天成的是一台第三代扫描投影式光刻机，最小工艺节点0.25um，也就是250纳米，用于制造冰熊需要的航天专用元件。

    在商业中，放在去年确实很先进，但今年已经过去一半，世界主流是180纳米，也就是老洪带回来的那一台。

    等到明年，估计能降到一百纳米，三年后七八十纳米，五年后四五十纳米，十年后十几纳米，十五年后几纳米……

    仔细算算。

    如果一切都很顺利。

    天成做出制造光刻机的设备，开始制造光刻机。

    其它承制企业也很给力，搞出对应镜头、晶圆、蚀刻机……

    这个过程，大概需要两年时间！

    两年后，天成制造出了180纳米的光刻机，让华夏技术再前行一步，而这个时候，国外的光刻机技术已经缩小到100纳米。

    这还不算完。

    光刻机落后人家两年，咱还得制造巨大规模集成电路。

    把晶圆切片、涂膜、光刻显影、溶剂蚀刻、以及测试、封装……

    这个过程，大概需要两千到五千道工序，即便操作员熟悉工艺流程，少说也需要三个月，多则一年。

    仅仅制作一批芯片，加上制造光刻机的时间，三年过去，人家光刻机技术更加先进了，差距更大了……

    就像他经常说的那句话：先人一步，快人一拍，胜人一筹！

    追，暂时上追不上了。

    想弯道超车，目前也几乎不可能。

    对抗欧美联合体的科研力量，仅靠天成，哪怕有支持，哪怕把卖房子的钱全砸进去，系统不升级的话，在霍尔定律影响下，二十年内同样追不上。

    因此，葛小天想的是，先用！

    管它什么先进不先进，我先把落后你们一筹，自主研发的巨大规模集成电路搞出来，抢占智能手机这个空白领域，推广自己的神龙系统，制定自己的行业规范，发展自己的软件群体……

    制裁？
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